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產(chǎn)品中心

半導(dǎo)體/電子特氣領(lǐng)域純化設(shè)備供應(yīng)商

產(chǎn)品系列

惰性1

넳 넲

HON-He/Ar/Ne/Xe-S/W/VVV系列惰性氣體純化器

系列 Series	雜質(zhì) Impurity	入口 Inlet（ppm）	出口 Outlet（ppb）
HON- He/Ar/Ne/Xe -S/W/VVV	O2	＜3	＜1
	N2	＜1	--
	H2	＜1	＜1
	CO	＜1	＜1
	CO2	＜1	＜1
	CH4	＜0.5	--
	H2O	＜3	＜1
	NMHC	＜0.5	＜1
	PARTICLES	--	≤10pcs/m3, 0.003μm
Pressure Drop		＜1bar
Flow		10～3000Nm3/h

工藝介紹：

（1）通過(guò)物理和化學(xué)吸附方式脫除O2、CO、CO2、H2O、H2等雜質(zhì)。

（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復(fù)使用。

（3）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。

應(yīng)用領(lǐng)域：

集成電路制造行業(yè)

半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)

氣體行業(yè)

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